Nisene presenterar en ny design av sin unika OmniEtch. Det är nu möjligt att på kemisk väg avlägsna skikt för skikt av multi layer substrat för senare analys av önskat nivå. Se gärna en presentation av utrustningen genom att klicka på den. OmniEtch är först på marknaden med denna typ av utrustning och är givetvis certifierad för CE och SEMI S-2.     2005 Maj Tillbaka till Nyheter Kontakta oss för ytterligare information.